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研究用高純度シリコンウェハー 1枚入 4×N型

特徴

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

仕様

製造方法:CZ法面方位:100OF位置:110抵抗値:0.1~100Ω・cmパーティクル:パーティクル不問サイズ(インチ)×伝導型:4×N型OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):32.5±2.5×525±25入数:1枚特注対応品について(1)方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差を、より小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。(2)多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)。(3)ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。(4)8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください(最低単位25枚)。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
型番:
4×N型
JANコード:
4580110241693
  • 荷姿サイズ

    W:145 D:160 H:15 mm

     0.07kg
  • 商品コード:
    2-960-06
  • 入り数:
    1枚
  • 当社在庫[?]
  • 出荷目安 :
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